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フィスコ投資ニュース
配信日時: 2026/01/21 13:17,
提供元: フィスコ
キヤノン---反落、露光装置最大手のASMLが「後工程」に参入と
*13:17JST キヤノン---反落、露光装置最大手のASMLが「後工程」に参入と
キヤノン<7751>は反落。露光装置で世界最大手のASMLが「後工程」に参入と報じられている。チップ同士をつなぐ層に配線を描くための装置であり、現在は同社がその分野をほぼ独占する状況となっている。後工程の重要性が高まる中、装置メーカーの競争が激しくなっている格好。同社は11年に後工程向けの露光装置に参入、露光装置販売拡大のけん引役となっており、前工程で圧倒的なASMLの参入は脅威ともみられている。
《YY》
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